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                      專注科學研發值得信賴的科學儀器生產商
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                      全自動動態吸附儀

                      應用領域:表面氧化還原性能表征、表面酸堿性能表征、動態吸附性能表征。主要功能:程序升溫吸附TPD、程序升溫還原TPR、程序升溫氧化TPO、程序升溫反應TPRx、脈沖化學吸附、脈沖滴定、催化劑處理、液體吸脫附。

                      產品詳情

                          一、應用領域:

                      表面氧化還原性能表征、表面酸堿性能表征、動態吸附性能表征

                          二、主要功能:

                      程序升溫吸附TPD、程序升溫還原TPR、程序升溫氧化TPO、程序升溫反應TPRx、脈沖化學吸附、脈沖滴定、催化劑處理、液體吸脫附

                          三、特點:

                      ※適用于塊狀和顆粒狀樣品。

                      ※在線配氣/鋼瓶配氣,三路進氣口。

                      ※反應管臥式安裝,具有體積小,升降溫速度快等優點。

                      ※全自動軟件控制,設置程序后,設備自動完成程序過程,記錄實驗數據。

                      ※高靈敏度及高穩定性TCD檢測器,敏感度、穩定性及精度良好,基線平穩,信噪比高。

                      ※測定結果自動化生成,方便導出通用文檔,進行后續數據處理。

                      ※儀器尾氣出口可與色譜、質譜等分析儀器聯用。

                      ※可拓展液體進樣和全程保溫功能,實現液體吸脫附過程。

                      ※全自動控制軟件界面可自行編輯設計程序(包含反控色譜檢測),用戶可根據實驗要求自行編程。

                      ※USB通訊接口,通用性強,通信可靠不中斷,支持自恢復連接功能。

                          四、技術指標:

                      操控方式

                      全自動軟件控制系統

                      氣路數量

                      3

                      流量計數量

                      2

                      流量計

                      量程100 ml/min,耐氨腐蝕

                      準確度

                      ±1.5%F.S

                      精度

                      ±0.2%F.S

                      進氣方式

                      連續、脈沖

                      測試壓力

                      0.1 MPa

                      測試溫度

                      RT~1200 ℃(長期保持1000 ℃)

                      溫度控制精度

                      <±1 ℃

                      穩定性

                      <±1 ℃

                      程序升溫速率

                      0.5~90 ℃/min

                      加熱方式

                      進口電爐絲

                      升溫線性

                      99.999%

                      TCD結構

                      四燈絲

                      TCD控溫精度

                      <±0.1 ℃

                      TCD靈敏度

                      108 mol-1(NH3

                          五、實驗數據:

                           H2-TPR譜圖:

                      測試條件:取0.1g 活性碳負載催化劑在He氣氛150 下處理1 h后降至室溫,切換為5%H2/N2,待基線平穩后程序升溫至600 ,橋流120 mA,H2/N2混氣流量30 ml/min。                                               不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的H2-TPR譜圖.png

                                不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的H2-TPR譜圖

                           NH3-TPD譜圖:

                      測試條件:取0.1g ZSM-5負載催化劑在He氣氛550 下處理30 min,后降溫至100 ,轉為NH3吸附1 h后再通入He進行吹掃,待基線平穩后程序升溫至900 ,橋流120 mA,載氣He流量40 ml/min。

                      ZSM-5負載催化劑的NH3-TPD譜圖3.png   

                                                       ZSM-5負載催化劑的NH3-TPD譜圖

                           CO2-TPD譜圖:

                      測試條件:取0.1g不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑在He氣氛150 下處理1 h,后降溫至40 ,轉為CO2吸附1 h后再通入He進行吹掃,待基線平穩后程序升溫至800 ,橋流120 mA,載氣He流量40 ml/min。

                      不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的CO2-TPD譜圖3.png

                              不同焙燒溫度處理的CuO基催化劑的CO2-TPD譜圖


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